半導體、平板顯示等科技領域製作薄膜電路都要用到曝光機，更高的曝光精度可獲得更精細的圖形，就是我們平時聽到的5奈米、3奈米(線寬)技術，單位面積的晶片，更精細的線寬方便更密集的佈線，通常意味著更低的功耗和更強大的處理能力。
單色光源是確保曝光精度的必要條件，如何獲得波長單一的單色光，科學界、工程界興師動眾，堪比登月。
單色光源:如果我能發明創造各種單色光源，想要哪個用哪個。為此科學家理論分析、工程師神農嘗百草，鈉燈、汞燈、鹵素燈、半導體化合物發光二極體。。
濾光片:不管你是什麼光，不要的光我都過濾掉，剩下的不就是我要的光，大不了各種濾光片一起上，總能獲得單色光。薄膜干涉濾光片有效消除單色光、應用廣泛。
這時候科學家又來了，光的色散瞭解一下:不同波長的光經過同一介質折射率不一樣，那麼，我拿一束光，以一定角度照向透明介質，透射光就應該是五顏六色的；將介質切成楔形，各種顏色的光可以散的更開，如果散的還不夠開，再來幾個楔子。卡爾蔡司說透鏡、稜鏡我都做。
