磁控濺射方法可用於製備多種材料,如金屬、半導體、絕緣子等.它具有裝置簡單、易於控制、塗覆面積大、附著力強等優點.磁控濺射發展至今,除了上述一般濺射方法的優點外,還實現了高速、低溫、低損傷.
1.各種功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低溫下沉積氮化矽減反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率.
2.微電子:可作為非熱鍍膜技術,主要用於化學氣相沉積(CVD).
3.裝飾領域的應用:如各種全反射膜和半透明膜;比如手機殼、滑鼠等.
4.一些不適合化學氣相沉積(MOCVD)的材料可以透過磁控濺射沉積,這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜.
5.機械工業:如表面功能膜、超硬膜、自潤滑膜等.這些膜能有效提高表面硬度、複合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性,從而大大提高產品的使用壽命.
6.光領域:閉場非平衡磁控濺射技術也已應用於光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃.特別是,透明導電玻璃廣泛應用於平板顯示器件、太陽能電池、微波和射頻遮蔽器件和器件、感測器等.
除上述領域外,磁控濺射在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜的研究中也發揮著重要作用.
