EUV光刻機是晶片製造的核心裝置，該裝置在整個晶片製造產線上的技術佔比高達約40%，其重要性不言而喻。然而，由於EUV裝置高精尖的技術門檻，以至於全球能生產的只有荷蘭ASML。
在老美對華為等中企實施晶片禁令之後，EUV裝置便成了我們突破封鎖的最大攔路虎。ASML雖然有意向國內市場出口，但卻因產線上使用了美國的技術以及產能不足這兩方面原因，導致遲遲未與國內晶片企業達成交易。
為了實現高精尖晶片國產化，中科院、清北高校等科研機構紛紛入局高精尖的研發。短短兩年時間內，中國科學家們便突破了“光源”、“雙工件臺系統”、“光學鏡頭”這三大EUV核心技術。與此同時，上海微電子自研的國產28nm光刻機也傳出了年底正式商用的好訊息。
我國是全球最大的半導體消費市場，對於在半導體領域中具有唯一性的ASML而言，我們在光刻技術方面的突破，是它最不願意看到的。因為一旦我們實現了光刻裝置自主，那麼ASML的市場地位將會受到巨大的衝擊。
為此，ASML曾警告老美：晶片斷供適得其反，只會加速中國自給自足的步伐，五年之內，他們將掌握包括EUV裝置在內的所有高精尖晶片技術，屆時ASML將有破產的風險。
可惜，老美對於華為等國產高科技企業太過忌憚，完全不顧所有人的反對，寧可讓美企以及使用美技術的企業承受無法自由出貨的損失，也不願意主動讓步、解除限制。
對於ASML來說，想要在未來不被排除在中國市場之外，目前唯一的辦法就是擴大EUV的產能，將這項稀缺裝置變的普及化，同時研發出更先進的新型裝置，以實現在不違法老美限制規則的情況下，換取EUV的自由出貨。
果然，在我國光刻研發不斷突破的壓力下，被老美限制自由出貨的ASML終於下定了決心。
首先，在上個月，ASML公開宣佈，新型的EUV光刻機NEX：5000的各項零部件已經制造完成，將在今年底運往荷蘭總部進行安裝，預計在2023年實現投產。
其次，ASML大舉“招兵買馬”，不僅在韓國投資2400億韓元建立EUV叢集，而且還在荷蘭、美國兩地總計投資數十億美元來擴大EUV產線。另外，ASML還不斷擴大科研團隊，工程師人數將增加20%，達到3400人的規模。
外媒報道，ASML計劃在今年年底再出貨25臺EUV光刻機；在2022年，將產能提高至55臺；2023年，則把產能再次提升到60臺。總計三年140臺！
要知道，EUV裝置從2015年商用至今，ASML總計也才出貨了不足100臺，且僅臺積電就包攬了約70%的產能。
如今ASML方面的突然提速，必然會在很大程度上改變目前的全球晶片格局。
隨著EUV的普及以及新型EUV的出現，全球晶片製造產業之間的差距將進一步縮小；更重要的是，ASML或許就可以實現自由出貨，因為在新型NEX：5000出現之後，EUV將不再是最先進的技術，而且也不再是稀缺的裝置。
因此，ASML如果能達成3年製造140臺EUV光刻機的計劃，或許未來還能在龐大的中國半導體市場中擁有一席之地。
